ALI(Atomic Layer Injection)
El desarrollo comercial de la técnica de ALI, ha sido posible por el cuerdo de cesión de tecnología entre la empresa Bihurcrystal SL y el Centro de Astrobiología. Al ser un centro mixto INTA - CSIC, son estas entidades de investigación las que son propietarias del know-how de la transferencia del conocimiento.

La técnica de ALI es una novedosa técnica de inyección de liquidos en vacío. La principal aplicación de esta técnica esta en la ciencia de superficies ya que es posible conseguir recubrimientos de material orgánico (moléculas disueltas en agua a temperatura ambiente) en condiciones de ultra alto vacío, haciendo que sea posible la coexistencia de líquidos en vacío.

La explicación del fenómeno de la entrada de liquidos en vacío se puede definir como una fuga pulsada, ya que en un pulso (100ms) entra una mínima cantidad de liquido que es evaporado por efecto del continuo funcionamiento de la bomba de vacío. El medidor de presión capta un brusco aumento de la presión y este va decreciendo lentamente hasta que la presión recupera su nivel basal. En condiciones de ultra alto vacío esta evaporación es casi instantánea ya que nos encontramos muy por debajo de la presión de vapor del agua a temperatura ambiente. Se producen pequeñas microevaporaciones que lo que indican es que el agua en estado liquido sobrevive un tiempo en vacío. Esta aplicación como se ha dicho es fundamental para conseguir recubrimientos orgánicos sobre substratos metálicos y minerales en condiciones de máxima limpieza.

En la cámara MARTE usamos la misma técnica con algunas variaciones ya que el control de liquido (agua) nos sirve para poder tener un control preciso de la humedad relativa en la atmósfera de MARTE. Este proceso en vacío grueso tiene otra dinámica que favorece que los procesos que ocurren con una alta concentración de vapor de agua en el aire se puedan reproducir en condiciones altamente controladas.

  ali interno
En el esquema y fotografía siguientes, se muestra el dispositivo experimental para favorecer la inyección de liquidos desde dentro de la cámara de vacío. De este modo se consigue que todo el liquido sea inyectado o proyectado en un área localizada. La principal diferencia de este proceso con el que se monta en condiciones de UHV como sucede en la cámara IE3C es que en MARTE es interior y en IE3C es exterior. En el proceso en alto vacío o vacío grueso como sucede en MARTE es que el liquido se mantiene el suficiente tiempo como para que se produzcan fenómenos biológicos apreciables con material orgánico vivo como sucede con un tapete microbiano formado por algas, líquenes y bacterias.
zona de descarga de documentación sobre ALI
rga | tpd | ali | dhmr
bomba rotativa | bomba turbo | bomba de membrana | trampa meissner | cuadrupolo en rf | pirani | penning | capacitivo | piezoresistivo | fuente uv de Deuterio | fuente uv de Xenón | halógenos
control de presión | control de temperatura | control de humedad | balanza de cuarzo | cámara de polvo | cámara atmosférica |portamuestras | estructura | thd | criostato | válvulas de guillotina | valvulas de flujo | válvulas de codo | valvula de venteo | pasamuros eléctricos | pasamuros de gases y líquidos | pasamuros criogénico | pasamuros óptico
sistema generador de polvo
© Jesús Manuel Sobrado Vallecillo (www.txus.es)